各位好~
小弟有幸錄取國內公司黃光製程RD
但是該公司學習資源不多，加上大家都很忙碌
所以想說自學比較好
想特別針對Overlay control的領域
包含ASML LIS, W3F3 model 數學模型
Aberration 對 Overlay影響
目前我只找到這本書:
Principles of Lithography, Third Edition
不知道大家有沒有推薦的書籍~
英文書籍佳
謝謝大家~
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 150.117.26.141
※ 文章網址: https://webptt.cc/bbs/Tech_Job/M.1535821228.A.93D.html
※ 編輯: rolems (150.117.26.141), 09/02/2018 01:44:08
推文 (7)
→
ss910126
錄取
09/02 01:05
推
Marcus
Burn寫的書
09/02 04:57
推
fleetwood
去amazon 找 Harry Levenson的書先了解基礎
09/02 05:24
→
fleetwood
再來跟asml application要lens aberration AP KT
09/02 05:25
推
giggs11s
はじめての半導体リソグラフィ技術
09/02 13:29
→
giggs11s
會日文的話，這本很推，岡崎信次寫的書，amazon有賣
09/02 13:29
推
autoppp
推g大說的
09/02 17:23